半导体行业是一个技术密集型的行业,其生产工艺复杂,设备精密度要求高,整体流程涉及到成百上千道工序。随着半导体制造工艺越来越高,其制造难度及品质管控也在呈指数级增长。因此,对材料纯度、制造精度等都提出极高要求。本分会将围绕光电材料与器件、第三代半导体材料与器件、传感器与MEMS、半导体产业配套原材料等热点材料、器件和材料分析、可靠性测试、失效分析、缺陷检测和量测等热点分析检测技术,涉及各类分析仪器:等离子体质谱,辉光放电质谱,离子色谱,液相色谱质谱,扫描电镜,透射电镜,拉曼光谱等。在方法与技术方面,包括超痕量元素分析、样品制备、进样技术、激光剥蚀技术,单纳米颗粒分析等;在应用方面,涵盖硅片及硅基材料,电子气体,光刻胶,前驱体,靶材、高纯化学试剂分析等。
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